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O₂/CF₄

Sauerstoff in Tetrafluormethan

Die Mischung aus 80 % CF4-Gas mit 20 % O2-Gas kann in großem Umfang in der Oberflächenreinigung von elektronischen Bauteilen, Solarzellen, Lasertechnik und anderen Bereichen eingesetzt werden.

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Sauerstoff in Tetrafluormethan
Sauerstoff in Tetrafluormethan
Prozess

Vermischung

Chemischer Name Sauerstoff Tetrafluormethan
CAS-Nr 7782-44-7 75-73-0
UN-Nr. 1956
Beschriften Sie Elemente

  • 未 标题-1

    Signalwort: Warnung

Beschreibung

Das Mischgas aus Tetrafluormethan und Sauerstoff wird häufig in Silizium-, Silizium-, Silizium-, Phosphor-Siliziumnitrid-Dünnschichtmaterialien wie Glas- und Wolframätzen, bei der Herstellung von Oberflächenreinigung elektronischer Komponenten, Solarzellen, Lasertechnologie, Gasphasenisolierung, Kryotechnik verwendet Kühlung, Dichtheitsprüfmittel, Lageregelung, Weltraumraketen, gedruckte Schaltungen werden auch häufig bei der Herstellung von Reinigungsmitteln usw. verwendet.

Oft gestellte Frage
  • F: Was ist die Spezifikation, die Sie liefern können?

    Gas: O2/CF4 Zylinder: 44L Ventil: CGA580

Anfrage
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