Die Mischung aus 80 % CF4-Gas mit 20 % O2-Gas kann in großem Umfang in der Oberflächenreinigung von elektronischen Bauteilen, Solarzellen, Lasertechnik und anderen Bereichen eingesetzt werden.
Vermischung
Chemischer Name | Sauerstoff | Tetrafluormethan |
CAS-Nr | 7782-44-7 | 75-73-0 |
UN-Nr. | 1956 |
Signalwort: Warnung
Das Mischgas aus Tetrafluormethan und Sauerstoff wird häufig in Silizium-, Silizium-, Silizium-, Phosphor-Siliziumnitrid-Dünnschichtmaterialien wie Glas- und Wolframätzen, bei der Herstellung von Oberflächenreinigung elektronischer Komponenten, Solarzellen, Lasertechnologie, Gasphasenisolierung, Kryotechnik verwendet Kühlung, Dichtheitsprüfmittel, Lageregelung, Weltraumraketen, gedruckte Schaltungen werden auch häufig bei der Herstellung von Reinigungsmitteln usw. verwendet.
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